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熱門關(guān)鍵詞：碳硫分析儀 顯微鏡 硬度計(jì) 氧氮?dú)浞治鰞x 光譜儀 試驗(yàn)機(jī)
Qpol 300M2 是一款手動(dòng)雙盤磨拋機(jī)，工作盤尺寸 250/300 mm. 在綜合了人體工程學(xué)的觸屏上，所有的過程參數(shù)以及便于手動(dòng)操作的功能都清晰地顯示出來并可以隨時(shí)進(jìn)行方便的更改。所有的過程參數(shù)都可以保存為制備方法。可調(diào)節(jié)的定時(shí)器和用于可視化當(dāng)前磨拋壓力的扭矩顯示使得手動(dòng)制備步驟也為舒適和具有重現(xiàn)性。當(dāng)制備開始或結(jié)束時(shí)，水閥自動(dòng)打開/關(guān)閉。 甩干功能（加速清潔) 在制樣過程結(jié)束時(shí)以750rpm的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)3 秒鐘，有助于磨拋盤脫水，之后自動(dòng)關(guān)閉設(shè)備。為強(qiáng)勁的、速度可控的驅(qū)動(dòng)使得該型號(hào)適用于所有的制備步
QATM雙盤手動(dòng)研磨拋光機(jī)QPOL 250 M2工作盤: 200/250 mm轉(zhuǎn)速: 30-600轉(zhuǎn)/分，連續(xù)可調(diào)雙盤裝置研磨拋光機(jī)QPOL 250 M2Qpol 250 M2是一款手動(dòng)，雙盤磨拋機(jī)，工作盤直徑 200/250 mm。 帶有亮起狀態(tài)指示的開始/停止開關(guān)及帶刻度和集成加速按鈕的轉(zhuǎn)向開關(guān)可以直觀地操作手動(dòng)設(shè)備。甩干功能（加速清潔) 在制樣過程結(jié)束時(shí)以750rpm的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)3秒鐘后關(guān)閉設(shè)備，有助于磨拋盤脫水。 尤其強(qiáng)大的速度控制驅(qū)動(dòng)器使得該型號(hào)對(duì)所有工作步驟皆可實(shí)施應(yīng)用。此外，工作盤可順時(shí)針/
QATM單盤手動(dòng)研磨拋光機(jī)QPOL 250 M1工作盤: 200/250 mm轉(zhuǎn)速: 30-600轉(zhuǎn)/分，連續(xù)可調(diào)單盤裝置QATM研磨拋光機(jī)QPOL 250 M1Qpol 250 M1是一款手動(dòng)，單盤磨拋機(jī)，工作盤直徑 200/250 mm。 帶有亮起狀態(tài)指示的開始/停止開關(guān)及帶刻度和集成加速按鈕的轉(zhuǎn)向開關(guān)可以直觀地操作手動(dòng)設(shè)備。甩干功能（加速清潔) 在制樣過程結(jié)束時(shí)以750rpm的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)3秒鐘后關(guān)閉設(shè)備，有助于磨拋盤脫水。 尤其強(qiáng)大的速度控制驅(qū)動(dòng)器使得該型號(hào)對(duì)所有工作步驟皆可實(shí)施應(yīng)用。此外，工作盤可
QATM手動(dòng)研磨拋光機(jī)QPOL 200 M工作盤: 200 mm轉(zhuǎn)速: 20 - 600 rpm, 連續(xù)可調(diào)Qpol 200 M是一款用于金相制備的手動(dòng)單盤磨拋機(jī),工作盤直徑為200 mm。耐沖擊塑料內(nèi)槽，采用粉末涂層的鋁制外殼及設(shè)備內(nèi)部的高標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)，賦予了其安靜、平穩(wěn)運(yùn)行的特點(diǎn)及佳的制備結(jié)果。QATM磨拋機(jī)Qpol 200 M特點(diǎn)：?jiǎn)伪P研磨/拋光機(jī)速度可調(diào)磨盤脫水旋轉(zhuǎn)功能（清潔加速）快速，便捷且無需工具的磨盤更換通過抬起工作盤，可輕松清潔/沖洗底槽鋁制外殼，粉末涂層抗撞擊塑料內(nèi)槽手動(dòng)水電磁閥內(nèi)槽沖洗軟
QATM預(yù)磨機(jī)QGRIND 100/XL1、砂帶預(yù)磨機(jī)QGRIND 100初的研磨步驟，是為了去除樣品表面的變形層，并得到一個(gè)平面。砂帶機(jī)Qgrind 100非常適合用于去除樣品表面的毛刺和磨平樣品。砂帶預(yù)磨機(jī)QGRIND 100干式/濕式砂帶預(yù)磨機(jī)兩個(gè)研磨帶用于不同顆粒的砂紙砂帶尺寸: 100 x 920 mm研磨帶更換容易Qgrind100是一款穩(wěn)定的濕式雙砂帶預(yù)磨機(jī)，主要用于打磨毛刺或預(yù)磨樣品或其他材料。可同時(shí)使用兩種不同粒度的砂帶。產(chǎn)生的廢屑由供水系統(tǒng)排出。特點(diǎn)：雙砂帶預(yù)磨機(jī)水冷手動(dòng)調(diào)整砂帶中心砂
1.中心加載力方式，一次性固定六個(gè)樣品，完成全部研磨拋光過程，磨拋出各個(gè)樣品的完整平面2.獨(dú)立控制磨拋盤和樣品盤：轉(zhuǎn)速、磨拋時(shí)間、轉(zhuǎn)動(dòng)方向、水閥關(guān)閉等全部磨拋參數(shù)；3.觸摸屏界面：磨拋參數(shù)設(shè)定方便，狀態(tài)顯示直觀，操作簡(jiǎn)單；4.加載力可以在運(yùn)行中調(diào)整，靈活方便。5.通過用電磁閥來控制水的通斷。6.輕松更換磁性防粘盤，就能完成各種試樣的粗、精磨及粗、精拋光等所有工序, 一盤等效于N個(gè)盤。7.精度高，運(yùn)行平穩(wěn)，噪音低。8.樣品磨去層厚度控制：精準(zhǔn)控制樣品的磨去量，磨到指定位置 (選配);9.外部滴液器控制：外部
1.6個(gè)樣品，獨(dú)立加壓。2.PLC獨(dú)立控制磨拋盤和樣品盤：轉(zhuǎn)速、磨拋時(shí)間、轉(zhuǎn)動(dòng)方向、水閥關(guān)閉等全部磨拋參數(shù)，并自動(dòng)保存、方便調(diào)用；3.觸摸屏界面：磨拋參數(shù)設(shè)定方便，狀態(tài)顯示直觀，操作簡(jiǎn)單；4.磨拋盤和樣品盤轉(zhuǎn)動(dòng)均無級(jí)變速，旋轉(zhuǎn)方向可切換,PLC控制水和磨料滴入器的通斷。5.3種工作模式：1)全自動(dòng)模式：根據(jù)樣品材料或使用者的習(xí)慣，可設(shè)置和調(diào)用：99套工藝（流程），每套工藝可含10步工序參數(shù)（每個(gè)工序?qū)τ谀骋徊侥セ驋伖ば蚬ば騾?shù)：磨盤和磨頭轉(zhuǎn)動(dòng)速度、磨拋時(shí)間……）2)單工序模式：根據(jù)每一步磨拋工序，可設(shè)置和
1.兩個(gè)磨盤，獨(dú)立電機(jī)，獨(dú)立控制2.八檔常用速度，每檔速度可由用戶自行設(shè)定,實(shí)現(xiàn)無級(jí)調(diào)速；3.逆時(shí)針/順時(shí)針，一鍵切換，遵從操作人員習(xí)慣4.回轉(zhuǎn)水管冷卻可以旋轉(zhuǎn)方向，調(diào)節(jié)水流量大小5.設(shè)備運(yùn)行平穩(wěn)、噪音低雙盤雙控金相磨拋機(jī)LAP-2MV參數(shù)：工作盤直徑 ：標(biāo)配φ230mm （選配φ203mm） 磨盤轉(zhuǎn)速（r/min）：左盤： V1=150、V2=300、V3=600、V4=800（可自設(shè)定100-1000r/min）右盤：V1=300、V2=500、V3=800、V4=1000（可自設(shè)定100-1000r
1.一機(jī)多用，完成金相試樣研磨和拋光等過程。2.雙盤，每個(gè)盤分低速、高速，易于切換3.回轉(zhuǎn)水管冷卻可以旋轉(zhuǎn)方向，水流量大小可調(diào)。4.設(shè)備運(yùn)行噪音低、磨盤平整。雙盤四速金相磨拋機(jī)LAP-2E參數(shù)：工作盤直徑：標(biāo)配φ230mm （選配φ203mm） 轉(zhuǎn)速： 低速V1=300r/min、V2=500r/min 高速 V1=600r/min、V2=1000r/min 電機(jī)功率：0.37kw 電源電壓：AC380V（AC220可以定制） 外形尺寸：700x710x340mm 重量：46kg
